K&F 55MM NANO-X series ultra-low reflection CPL filter

Nano-X — polarizační filtr 55 mm, potlačí odlesky a prohloubí barvy.

• 28 vrstev antireflexní úpravy, odrazivost 0,1 %
• Šroubuje se na objektiv se závitem 55 mm.
• Povrch odpuzuje vodu, mastnotu a odolává poškrábání

Polarizační filtr odstraní odlesky z vody, skla a listí a tím vytáhne barvy, které se pod nimi ztrácejí. Obloha ztmavne, mraky vystoupí, listí přestane svítit bíle a přes hladinu je vidět pod vodu. Účinek se řídí otáčením filtru a je nejsilnější kolmo ke slunci; nedá se dodělat v postprodukci, protože jde o vlastnost světla, ne o barvu v souboru.

Sklo má 28 vrstev antireflexní úpravy a odráží jen 0,1 % světla, takže se v protisvětle neobjeví duchy ani závoj.

Povrch odpuzuje vodu a mastnotu, takže kapky stečou a otisky prstů jdou setřít bez šmouh; úprava zároveň snáší otírání v terénu.

Tenký rám 5,3 mm nechá i širokoúhlý objektiv bez tmavých rohů a rýhovaný okraj se dá otáčet i s nasazenou sluneční clonou. Účinek se přitom ladí plynule, takže odlesk z výlohy nebo z hladiny jde sundat jen zčásti a část lesku ve snímku nechat.