Ultratenký UV ochranný filtr Viltrox MC UV55 (55 mm) je vysoce kvalitní filtr na objektivy, který chrání váš objektiv a zároveň zachovává výjimečnou čistotu obrazu. Díky profesionálnímu optickému sklu B270 a pokročilé 18vrstvé vícevrstvé povrchové úpravě poskytuje až 99,5% propustnost světla s extrémně nízkou odrazivostí, což jej činí ideálním pro fotografování venku a v přírodě.
Ultratenký UV ochranný filtr Viltrox MC UV55 nabízí spolehlivou ochranu objektivu bez snížení kvality obrazu. Tento filtr, navržený tak, aby redukoval zkreslení a odlesky ultrafialového světla, pomáhá vytvářet správně exponované, barevnější fotografie, zejména v prostředí s přirozeným osvětlením.
Filtr je vyroben z profesionálního optického skla B270 a využívá pokročilou 18vrstvou vysoce propustnou vícevrstvou povrchovou úpravu, která zajišťuje konzistentní výkon a až 99,5% propustnost světla. Ultra nízká odrazivost povrchu 0,3 % minimalizuje odlesky a duchy, zatímco superhydrofobní olejoodpudivá vrstva činí filtr vodotěsným, odolným proti skvrnám a snadno čistitelným.
Jeho přesný rám z hliníkové slitiny je lehký a odolný a zajišťuje bezpečné, nenápadné uchycení, které pomáhá zabránit vinětaci. Díky zvýšené odolnosti proti poškrábání a povrchové úpravě proti šmouhám je filtr Viltrox MC UV55 vynikající volbou pro fotografy, kteří vyžadují přesnost, odolnost a spolehlivou ochranu objektivu.
Hlavní vlastnosti
55mm ultratenký UV ochranný filtr
Až 99,5% propustnost světla
Ultra nízká odrazivost povrchu 0,3
18vrstvá vysoce propustná vícevrstvá povrchová úprava
Profesionální optické sklo B270
Superhydrofobní, olejoodpudivá vrstva
Voděodolný a odolný proti skvrnám povrch
Odolná vrstva proti poškrábání a zašpinění
Přesný rám z hliníkové slitiny
Model: Viltrox MC UV55
Typ filtru: UV ochranný filtr
Velikost filtru: 55 mm
Optické sklo: profesionální sklo B270
Propustnost světla: 99,5 %
Odrazivost povrchu: 0,3 %
Povlak: 18vrstvý vysoce propustný vícevrstvý povlak
Materiál rámečku: hliníková slitina
Voděodolnost: Ano
Odolnost proti skvrnám: Ano
SK
EU
HU
AT
DE
SI
HR
