Nikon 19mm f/4 E PC ED

Objektiv Nikon 19 mm f/4E PC ED je profesionální širokoúhlý objektiv s funkcí tilt-shift, který umožňuje přesné ovládání perspektivy, zaostření a hloubky ostrosti – je ideální pro fotografování architektury, interiérů a krajiny.

Objektiv Nikon 19 mm f/4E PC ED je špičkový objektiv s funkcí perspektivní korekce (PC), určený pro fotografy, kteří vyžadují absolutní přesnost při kompozici a zachování geometrie. Díky ultraširokému úhlu záběru 97° nabízí rozsáhlé pokrytí, což z něj činí ideální volbu pro fotografování architektury, interiérů, krajiny a pro vytváření kreativních vizuálních efektů.

Tento pokročilý tilt-shift objektiv umožňuje nezávislé pohyby naklonění a posunu, což umožňuje plnou kontrolu nad perspektivou a hloubkou ostrosti přímo ve fotoaparátu. Fotografové mohou korigovat sbíhající se linie v architektonických snímcích, dosáhnout ostrosti od okraje k okraji nebo vytvářet efekty selektivního zaostření, jako jsou snímky ve stylu miniatury. Poprvé u objektivu NIKKOR PC lze pohyby naklonění a posunu vyrovnat paralelně nebo kolmo bez složitého přenastavování, což nabízí výjimečnou flexibilitu.

Sofistikovaná optická konstrukce zahrnuje 3 prvky ED (Extra-low Dispersion) a 2 asférické prvky, které účinně minimalizují chromatickou aberaci, zkreslení a odlesky – a to i při širokých clonách. Pokročilá povrchová úprava Nano Crystal Coat redukuje duchy a odlesky, zatímco fluorová vrstva chrání přední prvek před nečistotami, vodou a šmouhami.

Elektromagnetická clona zajišťuje konzistentní a přesné řízení expozice, zejména při sériovém snímání. Objektiv je konstruován s ohledem na odolnost a je vybaven těsněním proti povětrnostním vlivům, aby odolal náročným podmínkám při fotografování. To činí z objektivu 19 mm PC nepostradatelný nástroj pro profesionály v oblasti architektonické, komerční a umělecké fotografie.

Klíčové vlastnosti

• Ultraširoká ohnisková vzdálenost 19 mm s úhlem záběru 97
• Pokročilé ovládání tilt-shift (PC) pro perspektivu a hloubku ostrosti
• Nezávislé pohyby naklonění a posunu (paralelní nebo kolmé)
• 3 prvky ED + 2 asférické prvky pro vynikající kvalitu obrazu
• Povlak Nano Crystal Coat redukuje odlesky a duchy
• Fluorová vrstva pro snadné čištění a ochranu
• Elektromagnetické ovládání clony pro přesnou expozici
• Ideální pro fotografování architektury, interiérů, krajiny a produktů
• Odolná konstrukce odolná proti povětrnostním vlivům