K&F 55MM, NANO-X-CPL Magnetic filter,HD, Waterproof, Anti Scratch, Green Coated,with magnetic attachment

Magnetický filtr K&F 55MM NANO-X CPL zvyšuje čistotu a sytost barev a zároveň snižuje odrazy. Vyznačuje se rychlou magnetickou instalací, ultratenkým CNC hliníkovým rámem a odolným vodotěsným optickým sklem s povrchovou úpravou proti poškrábání a zeleným povlakem.

Magnetický filtr K&F 55MM NANO-X CPL je určen pro fotografy, kteří hledají vynikající kvalitu obrazu a rychlou a snadnou obsluhu. Tento kruhový polarizační filtr (CPL) odstraňuje odrazy z nekovových povrchů, jako je voda, sklo a listí, a poskytuje ostřejší snímky s vylepšenou sytostí barev a kontrastem. Jeho oboustranně leštěné optické sklo HD zajišťuje vysokou věrnost a přesnost barev, i při použití s teleobjektivy. Pokročilá nano-vrstva poskytuje výjimečnou odolnost a ochranu – je vodotěsná, odolná proti plísním, poškrábání a mastnotě – takže kapky vody, otisky prstů a mastnotu lze setřít bez ztráty jasnosti. Díky magnetickému upevňovacímu systému lze filtr nasadit nebo sejmout za pouhou sekundu, což je mnohem pohodlnější než u tradičních filtrů se závitem. Ultratenký hliníkový rám opracovaný pomocí CNC obrábění zabraňuje vinětaci u širokoúhlých objektivů a zároveň nabízí elegantní a odolnou konstrukci. Součástí balení je magnetická krytka objektivu z leteckého hliníku, která funguje jako magnetický i závitový kryt pro všestrannou ochranu.

Hlavní vlastnosti:

• Eliminuje odrazy na nekovových površích pro jasnější a živější obrazy
• Zvyšuje sytost barev a celkovou čistotu obrazu
• Oboustranně leštěné optické sklo HD pro vysokou věrnost
• Magnetická instalace a demontáž během jedné sekundy
• Ultratenký hliníkový rám CNC minimalizuje vinětaci
• High-tech nano-povlak: voděodolný, odolný proti plísním, poškrábání a mastnotě
• Snadné čištění i za přítomnosti vody, otisků prstů nebo mastnoty
• Zahrnuje magnetický + závitový kryt objektivu z leteckého hliníku