K&F Concept Nano-X PRO MC UV filtr 49 mm pro Leica Q3/Q2

Nano-X Pro — UV filtr 49 mm, chrání přední čočku a odfiltruje ultrafialové světlo. Kapky, prach i otisky zachytí filtr místo čočky.

• 36 vrstev antireflexní úpravy, odrazivost 0,1 %
• Určeno pro Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2
• Šroubuje se na objektiv se závitem 49 mm.
• Povrch odpuzuje vodu, mastnotu a odolává poškrábání

Pro Leica Q3 a Q2

Filtr je rozměrem i vzhledem dělaný pro objektiv fotoaparátů Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2. Mosazná obroučka je vysoká jen 3,6 mm, takže nepřekáží přepínání do makro režimu a na objektiv jde dál nasadit originální sluneční clona. Jemné CNC rýhování usnadní přišroubování i sundání.

Filtr MCUV plní dvě role naráz. Odfiltruje ultrafialové světlo, které dělá v dálkových záběrech a v horách namodralý závoj, a hlavně kryje přední čočku — místo poškrábaného objektivu se vymění filtr za zlomek jeho ceny. Na snímek jinak nemá vliv, takže může zůstat nasazený trvale. Sklo má 36 vrstev antireflexní úpravy a odráží jen 0,1 % světla, takže se v protisvětle neobjeví duchy ani závoj. Povrch odpuzuje vodu a mastnotu, takže kapky stečou a otisky prstů jdou setřít bez šmouh; úprava zároveň snáší otírání v terénu.