UV filtr K&F Concept 43 mm Nano-X s ultra nízkým odrazem: odrazivost 0,1 %, 28vrstvé zelené nano-povlakované HD sklo, vodotěsné/odolné proti poškrábání, tenký 3,3mm rámeček pro křišťálově čistý obraz bez odlesků.
UV filtr K&F Concept 43 mm Nano-X s ultra nízkým odrazem: odrazivost 0,1 %, 28vrstvé zelené nano-povlakované HD sklo, vodotěsné/odolné proti poškrábání, tenký 3,3mm rámeček pro křišťálově čistý obraz bez odlesků.
Zažijte bezchybnou čistotu s UV filtrem K&F Concept 43 mm Nano-X Ultra-Low Reflection, který byl vyvinut pro dokonalost ve fotografování a natáčení videa ve vysokém rozlišení. Pokročilá titanová vrstva dosahuje špičkové hodnoty 0,1 % povrchového odrazu a ≥99,8 % propustnosti světla, čímž prakticky eliminuje duchy, odlesky a odlesky protisvětla – dokonce i při natáčení v rozlišení 4K/8K. Je vyroben z prvotřídního optického skla HD, které zachovává ostré detaily a věrné barvy bez zkreslení. 28vrstvý nano zelený povlak MRC odpuzuje vodu, olej, prach a škrábance a zároveň zachovává optickou čistotu. Jeho ultratenký 3,3mm hliníkový rámeček zabraňuje vinětaci na širokoúhlých objektivech a zajišťuje lehkou a bezpečnou montáž. Tento profesionální UV filtr, ideální pro kompaktní systémy, poskytuje maximální ochranu a kvalitu obrazu za všech světelných podmínek – je perfektní pro krajiny, portréty a filmová videa.
| Výrobce: | K&F Concept |
| Kategorie: | Filtry |